掩模對準曝光機的試驗方法：

　　1、環(huán)境條件檢查：

　　a、溫度、相對濕度檢查：試驗期間，用精度不低于1級的干濕球濕度計每4h測試一次環(huán)境的溫度，相對濕度。千濕球濕度計應置放在與工作臺高度一致，沒有氣流的地方；

　　b、潔凈度檢查：試驗期間，每4h測試一次潔凈度。選用測試精度能滿足相應潔凈度等級的光學粒子計數(shù)器檢測有效工作區(qū)域的潔凈度；

　　c、地面振動檢查：試驗期間，測試一次地面振動幅度，振動分析儀的拾振裝置應置放于工作臺機座附近。

　　

　　2、外觀檢查：

　　a、用目視法進行外觀質量檢查；

　　b、用手感方法檢查移動機構的空位及運動情況。

　　

　　3、安全檢查：

　　a、用自動擊穿裝置在500V直流電壓下，測量初級線路與機殼之間的絕緣電阻；

　　b、用自動擊穿裝置在1500V，50Hz交流電壓下，測量漏電流值。試壓1min，觀察有無擊穿和故電現(xiàn)象；

　　c、用目視法檢查接地標志。

　　

　　4、顯微鏡檢查：

　　a、調節(jié)顯微鏡的目鏡、物鏡，用手感及目視法檢查目鏡、物鏡中心距調節(jié)性能、光軸平行性，左右視場的齊焦程度以及左右顯微鏡倍率的一致性；

　　調節(jié)顯微鏡視場亮度，用目視法檢查視場的亮度變化及清晰度；

　　b、調節(jié)顯微鏡，選擇相應分辨率版，通過能識別的線寬，檢查顯微鏡的分辨能力是否滿足曝光機標稱分辨率的需要；

　　c、調節(jié)顯微鏡物鏡與基片相對位置，用1級千分表測量能識別相應線寬的調節(jié)范圍。此調節(jié)范圍即為顯徼鏡焦深。

　　

　　5、瞟光系統(tǒng)檢查：

　　a、調節(jié)曝光燈X，Y、Z方向位置，并檢查啟輝性能；

　　b、開啟噪光燈10min后，選用精度不低于0.33mW/c㎡，測試波長為365nm，404.7nm的紫外照度計檢瀏光強不均勻性；

　　c、開啟瞟光燈，檢查曝光燈是否能連續(xù)工作16h；

　　d、開啟曝光燈2h后，用半導體點測溫度計測量燈室外表溫升。

　　

　　6、曝光量控制檢查：

　　a、光源處于熱穩(wěn)定狀態(tài)后，連續(xù)開啟、關閉快門40次，檢查快門動作。關閉快門，將涂有500nm正性光致抗蝕劑的基片置于加有簡單圖形的掩模版及曝光頭下2min，而后顯影，檢查快門是否有漏光現(xiàn)象；

　　b、將定時系統(tǒng)曝光時間分別設置在6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s檔次上，在每設定時間下，用測速儀實測三次；

　　c、光源達到熱穩(wěn)定狀態(tài)后，置曝光量檔次為6.3，10，16，25，40，63，80，99.9s。在各設定檔次下，實測三次光強和瞟光時間；

　　d、用照度計測量掩模版中心光強值，每1h測一次，實測五次。

 

　　7、微動臺檢查：

　　a、用1級游標卡尺檢測掃描部件的調節(jié)范圍，用1級千分表檢測板架相對于顯徼鏡移動時的表面跳動量；

　　b、用1級游標卡尺檢測承片臺與掩模版的X、Y向相對調節(jié)范圍；用1級千分表檢測其微調小步距；

　　c、用精度等級不低于1’的量角器檢測平面轉動部件的粗調及微調范圍；

　　d、用1級游標卡尺和1級千分表檢測承片臺垂直升降粗調及徼調范圍。用千分表檢瀏接近式曝光的微調小步距。